半導體領域用光學薄膜測量儀測厚儀
半導體領域用光學薄膜測量儀測厚儀
產(chǎn)品信息 特 長 薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析 高性能的低價光學薄膜量測儀 藉由絕對反射率光譜分析膜厚 完整繼承FE-3000機種90%的強大功能 無復雜設定，操作簡單，短時...

● 支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度

● 使用反射光譜分析薄膜厚度

● 實現(xiàn)非接觸、非破壞的高精度測量，同時體積小、價格低

● 簡單的條件設置和測量操作！任何人都可以輕松測量薄膜厚度

● 通過峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優(yōu)化法等，可以進行多種膜厚測量。

● 非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計數(shù)）。

● 支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度

● 使用反射光譜分析薄膜厚度

● 實現(xiàn)非接觸、非破壞的高精度測量，同時體積小、價格低

● 簡單的條件設置和測量操作！任何人都可以輕松測量薄膜厚度

● 通過峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優(yōu)化法等，可以進行多種膜厚測量。

● 非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計數(shù)）。

● 支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度

● 使用反射光譜分析薄膜厚度

● 實現(xiàn)非接觸、非破壞的高精度測量，同時體積小、價格低

● 簡單的條件設置和測量操作！任何人都可以輕松測量薄膜厚度

● 通過峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優(yōu)化法等，可以進行多種膜厚測量。

● 非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計數(shù)）。

● 支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度

● 使用反射光譜分析薄膜厚度

● 實現(xiàn)非接觸、非破壞的高精度測量，同時體積小、價格低

● 簡單的條件設置和測量操作！任何人都可以輕松測量薄膜厚度

● 通過峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優(yōu)化法等，可以進行多種膜厚測量。

● 非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計數(shù)）。

● 支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度

● 使用反射光譜分析薄膜厚度

● 實現(xiàn)非接觸、非破壞的高精度測量，同時體積小、價格低

● 簡單的條件設置和測量操作！任何人都可以輕松測量薄膜厚度

● 通過峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優(yōu)化法等，可以進行多種膜厚測量。

● 非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計數(shù)）。