離子濺射成膜裝置
主要由真空室和鍍膜靶組成。工作時，幾個金屬靶材對著基板安置于真空室中。靶材上放置有一個陰極，該陰極會發(fā)射電子。電子被磁場聚焦并加速到高速，撞擊靶材表面后會將原子或分子從靶材表面剝離。 剝離的原子和分子穿過反應(yīng)室，在經(jīng)過減壓區(qū)域后，抵達基板表面并生成均勻的薄膜。

MSP-mini是用于臺式SEM觀察、光學顯微鏡的離子濺射成膜裝置。

★小面積目標物，最大限度地減少涂層小面積樣品時的浪費

使用（φ30mm）。

★試料臺是滑動玻璃原封不動地裝載的平板試料臺。

★低電壓涂層，即使對敏感的樣品也不會造成樣品損傷。

★用一個按鈕全自動進行排氣、涂層、泄漏。

★目標金屬為金（Au）標準。您可以選擇銀（Ag）選項。

★排氣系統(tǒng)采用外置RP 5升/min。

★輔助樣品階段（可選）可提高涂層速率和效率

可以成膜。